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m工艺。
据魔都微电子透露，明年他们有望交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。
算是在刚好迈在高端光刻领域的门槛，也就是现在国内的光刻科技水平还停留在中端水平。
根据光刻机工艺水平，光刻机主要划分为超高端、高端、中端、低端四个层次。
首先，光源EUV13.5nm、节点5nm/7nm的光刻机是处于超高端层次的，全球只有AMSL这一家公司可以组装制造。
其次，光源ArF+浸入式，节点在7~28nm处于高端层次的。
最后，光源ArF/KrF/I-Line，且节点是65nm+或90nm+的，分别处于中端、低端层次。
注意，这里的ArF/KrF指的是深紫外光刻光源。
想要制作更好的的芯片，那就得造出更好的光源，比如极紫外光源（EUV）。
即使是这种ArF28nm光刻机和AMSL公司最先进的EUV5nm光刻机工艺有着天壤之别。
但是也能将国内的光刻水平提升到世界先进水平，完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等绝大部分逻辑芯片的要求，以及大部分数字芯片的要求。
陈所长也听说三桑目前正在研究3nm芯片工艺的光刻机，也许很多人都以为很厉害，但是对于他这种业界的人自然知道其中的道道。
现在的7nm或5nm芯片，不是从前的含义，最准确的是牙膏厂的命名，只是它也学坏了。
芯片的纳米制程并不是真的几纳米，更多是一种更新迭代的说法。
上一代可能是4nm，下一代根据摩尔定律乘以根号7，差不多3nm。
以前的制程是指晶体管的宽度，现在则是晶体管的沟道宽度，就出了这种个位数的纳米制程。
就像目前三桑研究的3nm光刻机，由于极紫外光刻技术受到光电效应的影响，可能其实际线精度在十几纳米或20纳米。
不过这种纳米制程的芯片如果不用EUV光刻机的话，也是弄不了的。
虽然各厂家的命名方法各有所别，但也不是完全没有意义。
长光机电所也在为接下来的14nm工艺光刻机刻苦攻坚。
只是没有极紫外光源，想要做成这样的光刻机恐怕很难。
“唉~”
陈所长也知道这需要不长的时间，可能几年、几十年，甚至最坏的结果——失败。
但是还是要继续攻研技术，要不然以后只能被人牵着牛鼻子走啊。
就在陈所长满心忧愁的时候，一个电话响了起来，打断了他的思绪。
他接起来一听，顿时眼睛睁瞪如灯笼般大小，惊声道：
“什么?燧人科技的极紫外光源成功了？！”