第49章舆论狙击

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    第49章舆论狙击(第1/2页)
    清晨六点，魔都的天还没全亮，星辰未来科技大厦楼下已经被记者围得水泄不通。
    长枪短炮对准大门，直播镜头一个比一个亢奋。星抖热搜前十，有八条跟星辰有关——《星辰光刻被曝PPT骗局》《艾斯摩尔CEO：龙国永远造不出EUV》《高通：三个月？拿显微镜都看不到进度》。
    林晚晴的直播间更是被水军刷了屏，满屏都是“骗子”“圈钱”“PPT公司”，粉丝和黑粉吵成一团。
    助理把舆情报告放在苏宇面前，声音发干：“苏总，从昨晚到现在，全网相关话题阅读量超过五十亿。水军账号初步统计，活跃的就有上百万个。我们法务团队加班收集证据，已经存了三千多份不实报道。”
    苏宇端着咖啡，神色平静，像是早料到这一出：“艾斯摩尔那位CEO，说了什么？”
    “他说……”助理咽了咽唾沫，“‘三个月造出EUV，是本世纪最大的笑话。龙国的光刻机，永远只会躺在PPT里。’”
    苏宇放下咖啡杯，嘴角缓缓勾起：“那就让他笑。笑够了，我再去抽他的脸。”
    上午十点，星辰官微发布一条公告：
    “今天下午两点，魔都国际会展中心，星辰光刻全球技术发布会。诚邀全世界媒体见证——龙国造EUV，是笑话，还是现实。欢迎质疑，欢迎打脸。”
    公告一出，全网炸锅。
    水军疯狂嘲讽：“开发布会？是发布会PPT吧？”“我赌他连一张图纸都拿不出来！”
    但真正关注半导体行业的人，却敏锐地嗅到了不一样的气息——敢在这种舆论风暴的中心，高调召开全球发布会，要么是疯了，要么，是真有底牌。
    下午一点五十分，魔都国际会展中心。
    能容纳三千人的主会场座无虚席。前排坐着龙国芯片行业的企业家和技术专家，后排则挤满了来自漂亮国、欧洲、倭国的外媒记者。连龙国科学院半导体所的几位院士，都专程赶到了现场。
    林晚晴带着星抖直播团队，占据了最佳机位，直播间在线人数以肉眼可见的速度冲过三千万。
    会场外，安保人员拉起警戒线，数百名没抢到入场名额的记者和粉丝被挡在门外，只能举着手机对着场外大屏看现场直播。有人隔着警戒线高喊了一句“星辰加油”，立刻引来一片山呼海啸般的附和。
    角落里，几张陌生面孔安静地坐着，西装领带上别着全球顶级投行的徽章——他们是高通和艾斯摩尔花钱请来的“观察员”，任务是逐帧记录苏宇的每一个数据，等着抓他的破绽。
    这场发布会，已经被全世界架到了火上。
    下午两点整，灯光骤然暗下。
    一道光束打在舞台上，苏宇一身黑色西装，缓步走上台。
    没有废话，他开门见山：“我知道，过去二十四小时，全世界都在说星辰光刻是个骗局。”
    会场里响起一阵低低的骚动。
    “今天这场发布会，我只回答一个问题——”苏宇顿了顿，目光扫过全场，声音掷地有声，“龙国，到底能不能造出EUV？”
    “我的答案是：能。而且，我们要造的，不是艾斯摩尔那种3纳米、5纳米的EUV。我们要造的，是全球第一台0.5纳米EUV光刻机。”
    全场哗然。
    “0.5纳米？！”前排一位外国记者当场站了起来，“苏先生，您在开玩笑吗？艾斯摩尔最先进的EUV，目前量产精度也只有3纳米。0.5纳米，那是物理极限！”
    “物理极限？”苏宇笑了，按下遥控器。他身后巨大的屏幕上，缓缓展开了一张复杂的工程蓝图——极紫外光源腔体、多层膜反射镜阵列、双工件台纳米级定位系统、整机装配爆炸图，标注精确到微米级的公差参数，密密麻麻的工艺路线铺满整个屏幕。
    “各位，请看大屏幕。”苏宇的语速不快，却字字清晰，“这是星辰光刻EUV-001的完整技术蓝图。极紫外光源波长13.5纳米，出光功率500瓦，双工件台定位精度0.1纳米，光学系统分辨率0.5纳米。”
    “我们已经在光源腔体设计上，采用了全新的等离子体约束方案，解决了高功率下的碎屑污染问题；光学镜组采用多层膜镀膜工艺，反射率做到70%以上——这每一项数据，都比艾斯摩尔现役机型高出整整一代。”
    会场里，先是死寂，然后是此起彼伏的倒吸冷气声。
    前排的技术专家们再也坐不住了。几位龙国半导体行业的元老凑在一起，压低声音争论着屏幕上的参数：
    “出光功率500瓦？艾斯摩尔现役机型的功率才350瓦！”
    “光学分辨率0.5纳米……这个数字如果属实，那意味着艾斯摩尔一代人的技术积累，直接被跳过了！”
    “关键不是参数。”一位白

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